Pôle épitaxie - Présentation générale

Le pôle épitaxie regroupe les différentes activités de croissance cristalline qui constituent le cœur de la recherche menée au CRHEA. Il est constitué de chercheurs, d’enseignants chercheurs et d’ingénieurs experts en épitaxie. Ils travaillent au quotidien autour de réacteurs d'épitaxie dédiés principalement à la croissance de semi-conducteurs (matériaux à grande énergie de bande interdite, matériaux 2D, matériaux pour le photovoltaïque). Les différents équipements sont regroupés au sein de deux plateformes qui se distinguent par le type de méthode d’épitaxie : l’épitaxie par jets moléculaires sous ultravide (Molecular Beam Epitaxy MBE, 8 réacteurs) et l’épitaxie par phase vapeur (Chemical Vapor Deposition CVD, 6 réacteurs). En outre, la plateforme s’est dotée d’un four de recuit sous N2 haute température (1700°C).

Les objectifs du pôle sont triples :

  • Réaliser des structures à base de matériaux à grande énergie de bande interdite (Al,Ga,In-N, Zn,Mg-O & SiC) à l’état de l’art pour des applications en électronique (Transistors, Diodes & Capteurs), en optoélectronique (LED & Laser) et photonique (métasurfaces, circuits photoniques) sur différents substrats hôtes (principalement le saphir et le silicium).
  • Développer les nouveaux matériaux pour le photovoltaïque tels que le (Zn,Mg)-N et les pérovskites halogénées du type Cs(Pb/Sn)Br.
  • Explorer l’épitaxie des matériaux 2D (graphène, BN, dichalcogénures à métaux de transition - TMDs) ainsi que les hétérostructures de van der Waals.
Responsables de la plateforme : Stéphane Vézian et Eric Frayssinet

Plateforme épitaxie CVD

Résumé des équipements CVD :

* l’empreinte carbone d’une partie des réacteurs a été estimée à partir des coûts (achats avec amortissement et fonctionnement) appliqués au simulateur d’achat suivant : https://apps.labos1point5.org/ purchases-simulator

Tarification

Les tarifs sont indiqués hors-taxe et en euros. Ils évoluent en fonction du statut du demandeur : une entreprise privée, un académique (Université, autre établissement public de recherche, …) ou une unité CNRS. Le tarif de base est établi en tenant compte de l’ensemble des coûts imputables à la réalisation d’un échantillon d’épitaxie standard. Ce tarif « de base » peut être modulé en fonction de la complexité de l’échantillon demandé et/ou des calibrations nécessaires à sa réalisation. Pour toute demande, envoyer par email une description détaillée de la structure d’échantillon désirée aux responsables de plateforme Stéphane Vézian et Eric Frayssinet.

tableau des tarification

Ces tarifs ne comprennent pas la fourniture des substrats qui peuvent être fournis par les clients. Dans le cas contraire, le coût des substrats sera facturé en sus.